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名称:半波整流的机型,探测深度可以达到3-4mm 荧光磁粉探伤机(卧式大型机型,以下均为大型机型)
半波整流的机型,探测深度可以达到3-4mm 磁化方式:周向、纵向、复合三种磁化方式 周向磁化电流: AC 0-3000A有效值,连续可调 DC 0-3000A平均值(半波两倍于平均值),连续可调 纵向磁化磁势: AC 0-18000AT有效值,连续可调 DC 0-18000AT平均值(半波两倍于平均值),连续可调 电极间距: 0-500mm电动可调 暂载率: ≥25% 夹持方式:气动夹紧 探伤灵敏度:15/100A1型试片清晰显示 探伤节拍:约10秒/件(上下料及观察时间除外,探伤时间和工艺过程可根据需方实际需要,程序可调整) 联系电话,021-6573 0171 |
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| 型号 | 名称 | 简介. |
| CED-2000 | 磁粉探伤机,移动式磁粉探伤机,交直流磁粉探伤机 |
磁粉探伤,移动式磁粉探伤,交直流磁粉探伤 型号,交流输出,直流输出,重量 CED-2000A,2000A,1000A,38Kg CED-3000A,3000A,1500A,55Kg CED-5000A,5000A,2500A,110Kg CMD-6000A,6000A,3000A,需询价 CMD-10000A,10000A,5000A,需询价 CMD-20000A,20000A,10000A,需询价 |
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